碳化矽早在1842年就被發覺了,但因其製(zhì)取時的加工工藝難度係數大,而且元(yuán)器件的產出率低,造成了價錢較高,這危害了它的運用。直至1955年,生長發育高質量碳化矽的方式出現推動了
碳化矽二極管原材料的發展趨勢,在(zài)航空航天(tiān)、航空公司、雷達探測和核能發電開發設計的行業獲得運用。80年代,產品化生(shēng)產製造的SiC進到(dào)銷售市場,並(bìng)運用於原油地暖的勘(kān)查、變(biàn)頻(pín)空調的開發設計、平(píng)板電視機的(de)運(yùn)用(yòng)及其太陽(yáng)能(néng)發電轉換的行業。
碳化矽二極管的出現極大地(dì)改進了集成電(diàn)路工藝的特性,考慮社會經濟和國防建(jiàn)設的必須,現階段(duàn),英國、法國、德國、日(rì)本國等資本主義國家正爭相資金投入重金對碳化矽原材料和元器件開展科學研究。美國防部從二(èr)十世紀90年代就剛開始適用碳化矽(guī)電力電子器件的科(kē)學研究,在1991年(nián)就取得成功(gōng)科學研究出了阻(zǔ)隔工作電壓為400V的肖(xiāo)特基二極管。
碳化矽二極(jí)管於二十一世紀初變成第一例(lì)社會化的碳化矽電力工程電(diàn)子元器件(jiàn)。英國Semisouth企業研發的(de)SiCSBD(100A、600V、300℃下(xià)工作中)早已用在英國皇家(jiā)空軍多電飛機場。由碳化矽SBD組成的功率模塊可在高溫、髙壓、強輻射源等極端標準下應用。現階段反方向(xiàng)阻隔工作電壓達到1200V的產品係列,其額定電壓可做到20A。碳化矽SBD的產品研發早已做到髙壓元器件的水準,其阻隔工作(zuò)電壓超出10000V,大電流量(liàng)元器件通(tōng)態電流量達130A的水準。
碳化矽二極管的擊穿場強很高,電(diàn)源開(kāi)關速率迅速,淨重很輕,而且容積不大,它在3KV之上的鎮流器主要用途更為具(jù)備優點。2001年(nián)Cree企業研(yán)發出19.5KV的櫥櫃台麵PiN二極管,同一階段日本國的Sugawara調研室也科學研究出了12KV的櫥櫃台麵(miàn)PiN二極管。2006年Cree企(qǐ)業報導了10KV、3.75V、50A的SiCPiN二極管,其10KV/20APiN二極管係列產品的達標率早已做到(dào)40%。
上述所講解的就是
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